利用0.69m环形抛光机对口径45mm、曲率半径57207mm的列阵透镜单元进行了抛光，利用0.69m环形抛光机对口径45mm、曲率半径57207mm的列阵透镜单元进行了抛光。实现了工件表面的超精密双面抛光加工。对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析，日本丰田工机公司研制成功采用浮动抛光进行超精密加工的SP46型超精密平面抛光机。最后对环形抛光机可抛光的球面曲率半径范围进行了探讨。报导了采用6m直径连续抛光机制造586mm440mm、20边形反射面板的大尺寸异型轻质平面反射镜的光学表面抛光技术。

　　结果表明面形精度和致性均优于平面摆动式抛光法，直径0.8m的盘面可抛光的曲率半径可低至10m。长期以来抛光工艺的制定以及抛光机结构优化都是建立在试验和生产经验基础上。以石英玻璃为对象进行双面抛光加工实验，平面抛光机的概要浮动抛光加工原理图1表示浮动抛光加工状态。

　　在自研的微射流抛光机床上对平面熔石英进行了抛光实验。进行了直线轨道式化学机械抛光机机械本体及相关零部件的设计工作。加工了精度达/200的光学平面。

　　微射流抛光技术可以用于光学元件的超光滑加工。设备新闻300mm圆片双面研磨/抛光机PeteWlterfAmericaInc公司为300mm硅片精密加工研制了高效率AC2000型双面研磨/抛光机。介绍了半自动超声波抛光机的结构特点。

　　分析了多转速抛光机结构和原理。对般情况下抛光机工作时的噪声与水下工作时抛光机的噪声进行了试验测量。发现盘面尺寸越小球面抛光能力越强，发现盘面尺寸越小球面抛光能力越强，实现表面粗糙度小于1nm的超平滑表面加工生产的目标。

　　简介为了适应对光学平面提出的越来越高的要求，5DP—5型大豆抛光机主要用于抛光大豆。双面抛光机广泛用于硅片、蓝宝石、陶瓷、磁性材料、电子器材的表面超光滑无损伤的平整加工，为了更好的了解抛光质量的影响因素、提高抛光效率。讨论了平面连续抛光理论和抛光工艺设备及特点，并结合仿真与试验研究了抛光工艺参数对抛光质量的影响规律。

　　而直线轨道式抛光机在机构实现上明显优于弧形轨道式抛光机，最后在新研制的超精密双面抛光机上，半自动超声波抛光机具有效率高、加工精度高等优点。完成不同加载压力对双面抛光加工稳定性影响的实验，对机械结构进行优化设计和研究，针对建筑陶瓷抛光机噪声产生的原因进行了分析。