对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析，最后对环形抛光机可抛光的球面曲率半径范围进行了探讨，利用0.69m环形抛光机对口径45mm、曲率半径57207mm的列阵透镜单元进行了抛光。利用0.69m环形抛光机对口径45mm、曲率半径57207mm的列阵透镜单元进行了抛光。

　　利用0.69m环形抛光机对口径45mm、曲率半径57207mm的列阵透镜单元进行了抛光，而传统陶瓷抛光机工艺参数的制定大多建立在改善瓷砖表面加工质量和提高抛光的生产效率等问题上。对种功能陶瓷进行了平面抛光实验，进行了抛光机气动系统的设计，并分析了修整环型抛光机抛光过程中工件材料的去除函数。利用PLC和监控组态软件对全自动抛光机电气控制系统进行设计与实现。

　　修正环型抛光机用于超精密平面抛光。直径0.8m的盘面可抛光的曲率半径可低至10m。直径0.8m的盘面可抛光的曲率半径可低至10m，结果表明面形精度和致性均优于平面摆动式抛光法。

　　结果表明面形精度和致性均优于平面摆动式抛光法。在整个瓷砖抛光生产线中陶瓷抛光机是最重要的加工设备。分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。

　　日本丰田工机公司研制成功采用浮动抛光进行超精密加工的SP46型超精密平面抛光机，发现盘面尺寸越小球面抛光能力越强，发现盘面尺寸越小球面抛光能力越强。认为本文所设计的叶片抛光机完全能够实现抛光叶片的功能。平面抛光机的概要浮动抛光加工原理图1表示浮动抛光加工状态，还发现了抛光机振动与加工轨迹的1个新的关系，研制了种采用专家数据库智能控制系统的纳米级超精密平面抛光机，阐述了数控研磨抛光机产品的特点及发展方向，文章通过具体实验调整内外齿圈齿比得到1个优化的参数使双面抛光机的振动减小，为了能够提高抛光机抛光质量，因此发展半自动的模具抛光机成了种切实可行的研究方向，瓷砖抛光的质量主要取决于抛光机工艺参数的制定，本文描述了台自制大平面抛光机的结构和原理。

　　本文设计了种圆平动或摆动式新型双面抛光机，详细讨论了抛光垫上不同位置点的相对轨迹。计算出的抛光量和平面度与60mm直径的玻璃圆板工件的实验值非常致。本文所设计的叶片抛光机机械结构本体。

　　常用行星式双面抛光机中工件及载体的内外缘速差会引起抛光垫变形。